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Target di catodo sputtering metallico personalizzato con conduttività superiore e spessore uniforme per processi di rivestimento industriale
| Place of Origin | China |
|---|---|
| Marca | Changsheng |
| Certificazione | ISO 9001;2015 |
| Model Number | ASTM F67,ASTM F136 ASTM B381 |
| Minimum Order Quantity | 200pcs |
| Prezzo | USD24/pc |
| Packaging Details | wooden case,carton Packaging can be according to customer requirements. |
| Delivery Time | 15~20 work days |
| Payment Terms | L/C, T/T, Western Union, MoneyGram,paypal |
| Supply Ability | 10000pcs/month |
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x| Evidenziare | target di catodo sputtering metallico personalizzato,target di sputtering metallico conduttivo,target di sputtering a spessore uniforme |
||
|---|---|---|---|
Descrizione del prodotto:
Il target di sputtering metallico è un componente fondamentale ampiamente utilizzato nel campo delle tecnologie di deposizione di film sottili, in particolare nei processi di Physical Vapor Deposition (PVD). In quanto target catodico di sputtering metallico di alta qualità, è progettato per offrire prestazioni ed affidabilità eccezionali in varie applicazioni industriali e di ricerca. Questo prodotto funge da materiale sorgente che viene atomizzato e depositato sui substrati per creare rivestimenti metallici uniformi e di elevata purezza, rendendolo indispensabile nella produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici, finiture decorative ed elettronica avanzata.
Prodotto con metalli di alta qualità, il target di sputtering metallico garantisce una purezza e un'integrità strutturale superiori, essenziali per ottenere velocità di sputtering costanti e una qualità ottimale del film. Il target è progettato per resistere alle rigorose condizioni delle camere di sputtering, inclusi ambienti ad alto vuoto, intensi bombardamenti al plasma ed elevate temperature. Queste proprietà lo rendono la scelta ideale per le applicazioni di Physical Vapor Deposition Target in cui la durata e la precisione sono fondamentali.
Una delle caratteristiche principali di questo target catodico di sputtering metallico è la sua versatilità. È compatibile con varie tecniche di sputtering come DC, RF e magnetron sputtering, consentendo l'utilizzo con un'ampia gamma di apparecchiature e processi. Questa flessibilità consente a produttori e ricercatori di adattare i propri processi di rivestimento a specifici materiali e requisiti di spessore, migliorando in definitiva le prestazioni del prodotto finale. Sia che l'applicazione richieda sottili strati conduttivi per la microelettronica o robusti rivestimenti protettivi per componenti industriali, questo target di sputtering offre risultati costanti e di alta qualità.
Il target di sputtering per rivestimenti metallici si distingue anche per le sue precise tolleranze dimensionali e la finitura superficiale. Vengono impiegati processi di lavorazione e lucidatura meticolosi per garantire planarità e uniformità, fondamentali per una generazione di plasma stabile e un'erosione uniforme durante lo sputtering. Questa attenzione ai dettagli riduce al minimo i difetti nei film depositati e prolunga la durata del target, riducendo i tempi di inattività e i costi operativi per gli utenti. Inoltre, il design del target può essere personalizzato per soddisfare specifici requisiti di dimensioni e forma, adattandosi a sistemi di sputtering unici e massimizzando l'utilizzo dei materiali.
In termini di opzioni di materiali, il target di sputtering metallico è disponibile in un'ampia varietà di metalli tra cui alluminio, rame, titanio, nichel, tungsteno e metalli preziosi come oro e platino. Ogni scelta di metallo offre proprietà fisiche e chimiche distinte che soddisfano diverse esigenze applicative. Ad esempio, i target in alluminio sono favoriti per l'eccellente conduttività e riflettività, mentre i target in titanio offrono una resistenza superiore alla corrosione e alla resistenza. Questa gamma di materiali garantisce che gli utenti possano selezionare il target ideale per ottimizzare il processo di rivestimento e le prestazioni del prodotto.
Inoltre, il processo di produzione del target catodico di sputtering metallico incorpora tecniche metallurgiche avanzate come la fusione sottovuoto, la forgiatura a caldo e la laminazione a caldo, che migliorano l'omogeneità del target e riducono al minimo le impurità. Questi processi contribuiscono a migliorare l'efficienza dello sputtering e l'adesione del film, fondamentali per i rivestimenti ad alte prestazioni. Le misure di controllo della qualità, tra cui l'analisi chimica e i test non distruttivi, vengono rigorosamente applicate per garantire che ogni target soddisfi i rigorosi standard del settore.
Nel complesso, il target di sputtering metallico è un componente fondamentale per ottenere risultati di rivestimento superiori nei processi di Physical Vapor Deposition. La sua elevata purezza, le eccellenti proprietà meccaniche e la compatibilità con diversi metodi di sputtering lo rendono uno strumento indispensabile per la produzione di film sottili affidabili e di alta qualità. Sia che venga utilizzato come target catodico di sputtering metallico nella fabbricazione di semiconduttori o come target di sputtering per rivestimenti metallici in rivestimenti decorativi e protettivi, questo prodotto offre costantemente prestazioni, durata e valore eccellenti.
La scelta del giusto target di sputtering metallico può influire in modo significativo sull'efficienza e sulla qualità del processo di sputtering. Investendo in questo prodotto di alta qualità, gli utenti beneficiano di una maggiore uniformità del film, di una riduzione della contaminazione e di una maggiore durata del target. Ciò porta in definitiva a migliori rendimenti di produzione, minori costi di manutenzione e caratteristiche superiori del prodotto finale. Per le industrie che richiedono precisione ed eccellenza nei rivestimenti a film sottile, il target di sputtering metallico si distingue come una soluzione affidabile e ad alte prestazioni.
Caratteristiche:
- Target metallico ad alta purezza che garantisce una qualità di rivestimento superiore
- Progettato come target sorgente di sputtering metallico per un'efficiente deposizione di materiale
- Uniformità e densità eccellenti per prestazioni di sputtering costanti
- Compatibile con vari sistemi e applicazioni di sputtering
- Target sorgente di sputtering metallico durevole e affidabile per una lunga durata
- Disponibile in più composizioni metalliche per soddisfare diverse esigenze industriali
- Prodotto con precisione per soddisfare i rigorosi standard del settore
Parametri tecnici:
| Nome del prodotto | Target metallico per deposizione a sputtering |
| Tipo | Target metallico per sputtering sottovuoto |
| Purezza | Target metallico ad alta purezza (≥ 99,99%) |
| Materiale | Vari metalli (ad es. Al, Cu, Ti, Ni) |
| Dimensioni | Dimensioni personalizzate disponibili (ad es. diametro 50-150 mm, spessore 1-10 mm) |
| Densità | Vicino alla densità teorica del metallo |
| Finitura superficiale | Superficie lucida e liscia per uno sputtering ottimale |
| Applicazione | Utilizzato nei processi di deposizione a sputtering per rivestimenti a film sottile |
| Compatibilità | Compatibile con la maggior parte dei sistemi di sputtering sottovuoto |
Applicazioni:
Il target di sputtering metallico Changsheng, disponibile nei modelli ASTM F67, ASTM F136 e ASTM B381, è un prodotto di alta qualità progettato per varie applicazioni industriali avanzate. In quanto target metallico ad alta purezza, svolge un ruolo fondamentale nei processi di deposizione di film sottili, garantendo prestazioni e coerenza di rivestimento superiori. Prodotto in Cina secondo i rigorosi standard di certificazione ISO 9001:2015, questo prodotto garantisce affidabilità ed eccellenza per uso professionale.
Una delle principali occasioni di applicazione per il target di sputtering metallico Changsheng è nelle industrie dei semiconduttori e dell'elettronica. Qui, il target di sputtering metallico industriale è essenziale per la fabbricazione di dispositivi microelettronici, circuiti integrati e transistor a film sottile. La sua elevata purezza garantisce una contaminazione minima, con conseguenti componenti elettronici ad alte prestazioni con maggiore durata ed efficienza. Questo lo rende ideale per l'uso in ambienti di camera bianca in cui la precisione e la qualità sono fondamentali.
Oltre all'elettronica, questo target per la deposizione di film sottili è ampiamente utilizzato nella produzione di rivestimenti ottici. Questi rivestimenti vengono applicati su lenti, specchi e altri componenti ottici per migliorare la trasmissione della luce, la riflessione e la durata. I target di sputtering Changsheng forniscono una composizione elementare costante, fondamentale per ottenere film sottili uniformi con eccellente adesione e proprietà ottiche.
Il target di sputtering metallico Changsheng è ampiamente utilizzato anche nei settori automobilistico e aerospaziale per depositare rivestimenti protettivi e decorativi su varie parti metalliche. I target di grado industriale aiutano a migliorare la resistenza alla corrosione, la resistenza all'usura e l'aspetto estetico, prolungando così la durata dei componenti critici in condizioni operative difficili. Con una capacità di fornitura di 10.000 pezzi al mese e una quantità minima d'ordine di 200 pezzi, il prodotto supporta in modo efficiente le esigenze di produzione su larga scala.
Le aziende beneficiano di condizioni di pagamento flessibili tra cui L/C, T/T, Western Union, MoneyGram e PayPal, rendendo l'approvvigionamento agevole e conveniente. Ogni ordine viene accuratamente imballato in casse di legno o cartoni, con opzioni di imballaggio personalizzabili in base alle esigenze del cliente. I tempi di consegna tipici variano da 15 a 20 giorni lavorativi, garantendo una fornitura tempestiva per i programmi di produzione in corso.
Con un prezzo competitivo di 24 USD per pezzo, il target di sputtering metallico Changsheng offre un valore eccellente senza compromettere la qualità. La sua combinazione di elevata purezza, applicabilità industriale e rispetto degli standard di qualità internazionali lo rende un materiale indispensabile per le organizzazioni coinvolte nella deposizione di film sottili e nelle tecnologie di rivestimento avanzate in tutto il mondo.
Supporto e servizi:
I nostri target di sputtering metallico sono progettati per offrire prestazioni ed affidabilità eccezionali nei processi di deposizione di film sottili. Per il supporto tecnico, forniamo assistenza completa, tra cui guida alla selezione dei materiali, fabbricazione di target personalizzati e consulenza per la risoluzione dei problemi per ottimizzare le tue applicazioni di sputtering.
Offriamo consulenza esperta per aiutarti a scegliere la giusta composizione e dimensione del target in base alle tue esigenze specifiche. Il nostro team può anche assistere con le procedure di installazione del target e i suggerimenti per la manutenzione per garantire la massima durata e una qualità costante del film.
Oltre ai prodotti standard, forniamo servizi personalizzati come target in lega, target compositi e target con piastre di supporto speciali o materiali di incollaggio. I nostri processi di controllo qualità garantiscono che ogni target soddisfi rigorose specifiche di purezza e dimensionali.
Per qualsiasi richiesta tecnica o richiesta di servizio relativa ai nostri target di sputtering metallico, il nostro team di supporto si impegna a fornire soluzioni tempestive ed efficaci per migliorare il tuo processo di produzione e la resa del prodotto.
Imballaggio e spedizione:
Imballaggio e spedizione del prodotto
I nostri target di sputtering metallico sono accuratamente imballati per garantire una consegna sicura e mantenere l'integrità del prodotto. Ogni target è avvolto in modo sicuro in materiali protettivi per prevenire danni alla superficie e contaminazione durante il trasporto.
I target vengono quindi collocati in robuste scatole progettate su misura con un'adeguata imbottitura per assorbire urti e vibrazioni. Per una maggiore protezione, vengono utilizzati essiccanti e sacchetti antistatici per preservare la qualità del target e prevenire l'ossidazione.
Offriamo varie opzioni di spedizione per soddisfare le tue esigenze di consegna, inclusi servizi standard, accelerati e di trasporto merci. Tutte le spedizioni sono tracciate e assicurate per la tua tranquillità.
Al ricevimento del tuo ordine, controlla immediatamente l'imballaggio e il prodotto. Se si osserva qualche danno, contatta immediatamente il nostro servizio clienti per assistenza.
FAQ:
Q1: Quali marchi e numeri di modello sono disponibili per il target di sputtering metallico?
A1: Il target di sputtering metallico è offerto con il marchio Changsheng ed è disponibile nei numeri di modello ASTM F67, ASTM F136 e ASTM B381.
Q2: Quali certificazioni ha il target di sputtering metallico?
A2: Il prodotto è certificato con ISO 9001:2015, garantendo il rispetto degli standard di gestione della qualità.
Q3: Qual è la quantità minima d'ordine e il prezzo per pezzo?
A3: La quantità minima d'ordine è di 200 pezzi e il prezzo è di 24 USD per pezzo.
Q4: Quali metodi di pagamento sono accettati per l'acquisto del target di sputtering metallico?
A4: Accettiamo pagamenti tramite L/C, T/T, Western Union, MoneyGram e PayPal per tua comodità.
Q5: Qual è il tempo di consegna tipico e l'imballaggio per il target di sputtering metallico?
A5: I tempi di consegna sono generalmente da 15 a 20 giorni lavorativi. L'imballaggio viene effettuato in casse di legno o cartoni e può essere personalizzato in base alle esigenze del cliente.

