La CINA Prezzo di fabbrica personalizzato Obiettivi di titanio 100*40mm 100*45mm,95*45mm Rivestimento

Prezzo di fabbrica personalizzato Obiettivi di titanio 100*40mm 100*45mm,95*45mm Rivestimento

Grado: Grado 1, Grado 2
Purezza: 99,97%
Processo di formazione: pressatura isostatica calda (HIP)
La CINA Titanio sputtering target Ti per rivestimento Ti Ti-Al Zr Cr per rivestimento PVD

Titanio sputtering target Ti per rivestimento Ti Ti-Al Zr Cr per rivestimento PVD

Materiali: Titanio
Grado: Grado 1, grado 2, grado 5, grado 7
Od: 10-914mm
La CINA Grado di titanio dell'obiettivo di Gr5-Eli 23 blocchi per l'impianto dentario ASTM F136

Grado di titanio dell'obiettivo di Gr5-Eli 23 blocchi per l'impianto dentario ASTM F136

Materiali: Titanio
Grado: Grado 5, grado 23
Od: 90-600mm
La CINA PVD Metale Sputtering Target 100x40mm Decorazione E Rivestimento Strumento

PVD Metale Sputtering Target 100x40mm Decorazione E Rivestimento Strumento

Dimensione del grano: < 100 mm
Tipo: farfugliare obiettivo
Tecnico: Rotolamento, forgiato, CNC
La CINA Dischi di titanio per bersagli 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm per denti finti

Dischi di titanio per bersagli 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm per denti finti

Misurare: Personalizzato
Tipo di bersaglio: Rotabile
Densità: Personalizzato
La CINA 99.995% di purezza Titanio Sputtering Target PVD Rivestimento di tubi rotanti bersagli

99.995% di purezza Titanio Sputtering Target PVD Rivestimento di tubi rotanti bersagli

Nome del prodotto: Obiettivi per tubi di titanio
Materiale: Titanio puro grado 1
Purezza: 99.9%-99.999%
La CINA OEM PVD 5N+ 99,9995% Titanio Obiettivi di alta purezza Obiettivi semiconduttori Film sottili

OEM PVD 5N+ 99,9995% Titanio Obiettivi di alta purezza Obiettivi semiconduttori Film sottili

Nome del prodotto: Materiale per bersagli di titanio semiconduttore
Purezza: 5N+(99,9993%-99,9995%)
Dimensione del grano: < 100 mm
La CINA 99.9%-99.999% Purezza Deposito di pellicola sottile Obiettivi di Titanio 3N-5N Obiettivi di Sputtering di Titanio

99.9%-99.999% Purezza Deposito di pellicola sottile Obiettivi di Titanio 3N-5N Obiettivi di Sputtering di Titanio

Nome del prodotto: Titanio per la deposizione di film sottile
Materiale: titanio puro
Purezza: 3N-5N
La CINA Obiettivi di sputtering a purezza singola/moltiplicata personalizzati con superficie lucidata

Obiettivi di sputtering a purezza singola/moltiplicata personalizzati con superficie lucidata

Substrate Compatibility: Customized
Purity: 99.99%
Density: Customized
La CINA 99.99% di purezza Sputtering Metale bersaglio con struttura cristallina di superficie lucidata

99.99% di purezza Sputtering Metale bersaglio con struttura cristallina di superficie lucidata

Surface: Polished, Anodizing
Surface Finish: Polished
Crystal Structure: Customized
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