99.99% Purezza Pistola di rivestimento in polvere elettrostatica con finitura superficiale lucidata

Descrizione del prodotto:

La struttura cristallina del bersaglio di sputtering metallo può essere personalizzata per soddisfare i requisiti unici di ogni applicazione.che è essenziale per ottenere risultati ottimaliLa superficie può anche essere anodizzata per una maggiore durata e resistenza all'usura.

La purezza dell'obiettivo di spruzzo di metallo è del 99,99%, il che garantisce prestazioni costanti nel tempo.Questo elevato livello di purezza è ottenuto attraverso un rigoroso processo produttivo che prevede l'uso di tecnologie e tecniche avanzate.

L'obiettivo di sputtering metallico è legato all'indio, che fornisce un collegamento forte e affidabile al substrato.Questo processo di attacco è fondamentale per garantire che l'obiettivo sia saldamente fissato durante il processo di sputtering.

L'obiettivo di sputtering metal è compatibile con una varietà di sistemi di sputtering, compresi quelli che utilizzano una pistola di rivestimento in polvere elettrostatica, un fascio di acciaio al carbonio I o una pistola di colla a fusione calda.Questa compatibilità lo rende un prodotto versatile che può essere utilizzato in una vasta gamma di applicazioni industriali e scientifiche..

Nel complesso, il Metal Sputtering Target è un prodotto di alta qualità che offre prestazioni affidabili e costanti.e alta purezza lo rendono una scelta ideale per una vasta gamma di applicazioni, mentre il suo forte legame con l'indio garantisce che rimanga saldamente in posizione durante il processo di sputtering.

Caratteristiche:

• Nome del prodotto: bersaglio per lo spruzzo di metallo
• Roverezza superficiale: Ra < 0,8 Um
• Configurazione del bersaglio: singolo o multiplo
• Superficie: lucidata, anodizzata
• Finitura superficiale: lucidata
• Purezza: 99,99%

Questo prodotto è ideale per le industrie che richiedono metalli di alta purezza per i loro processi.La configurazione del bersaglio può essere singola o multiplaLa superficie può essere lucidata o anodizzata, a seconda delle vostre preferenze.La purezza del metallo è di 99Questo prodotto è un componente chiave nella stampa 3D di polvere metallica, carbon steel I beam,e processi di fabbricazione di pistole adesive a fusione calda.

Parametri tecnici:

Applicazioni:

Una delle principali applicazioni di Metal Sputtering Target è nella produzione di semiconduttori.L'obiettivo di sputtering metallico è utilizzato anche nella produzione di celle solariInoltre, questo materiale è ideale per la produzione di supporti di archiviazione magnetica, come le unità a disco rigido.

Un'altra applicazione del metal sputtering target è nella produzione di rivestimenti decorativi.Il materiale viene utilizzato nella pistola di rivestimento in polvere elettrostatica per creare un rivestimento liscio e uniforme su varie superficiIl Metal Sputtering Target è utilizzato anche nella fabbricazione di metallo in acciaio legato ad alte prestazioni,che è comunemente utilizzato nell'industria aerospaziale e automobilistica.

Inoltre, il metal sputtering target è ampiamente utilizzato nella produzione di dispositivi e attrezzature mediche.e altri impianti mediciÈ utilizzato anche nella produzione di strumenti e attrezzature mediche.

L'obiettivo per lo sputtering metallico è compatibile con una vasta gamma di processi di fabbricazione, tra cui la stampa isostatica a caldo (HIP) e vari processi di lavorazione.È anche ideale per l'uso in applicazioni che richiedono un'elevata precisione e precisioneIl materiale può essere configurato come bersaglio singolo o multiplo, a seconda delle esigenze specifiche dell'applicazione.

L'obiettivo per lo sputtering metallico è anche adatto per l'uso nella macchina per il metal detector.Il materiale è anche facile da pulire e da mantenere, rendendola una soluzione conveniente per varie applicazioni.

Personalizzazione:

Personalizza il tuo obiettivo di sputtering metallico con i nostri servizi di personalizzazione del prodotto.

• Roverezza superficiale: Ra < 0,8 Um
• Superficie: lucidata, anodizzata
• Struttura cristallina: personalizzata
• Forma: rotonda
• Processo di modellazione: pressatura isostatica a caldo (HIP)

Il nostro bersaglio per lo spruzzo di metallo è realizzato con carbonio di alta qualità e è compatibile con la nostra tecnologia di rilevamento metallo a caduta libera.Offriamo 3D Printing Metal Powder per le vostre esigenze di personalizzazione.

Supporto e servizi:

I nostri prodotti Metal Sputtering Target sono progettati per soddisfare i requisiti esigenti di deposizione di film sottile nelle industrie dei semiconduttori, display e solare.Offriamo una vasta gamma di materiali, inclusi i metalli puri., leghe e ceramiche in varie forme e dimensioni per soddisfare le esigenze specifiche del processo.

Il nostro team di supporto tecnico è disponibile per aiutarvi con qualsiasi domanda che potreste avere sui nostri obiettivi di sputtering, inclusa la selezione del materiale, il legame del bersaglio e l'ottimizzazione del processo.Offriamo anche servizi di progettazione e fabbricazione personalizzati per soddisfare le vostre esigenze uniche.

Oltre ai nostri prodotti per lo sputtering, offriamo anche una varietà di servizi per supportare i processi di deposizione di film sottili.

• Servizi di vendita a domicilio
• Obiettivo di riciclaggio e recupero
• Caratterizzazione e analisi del film sottile
• Manutenzione e riparazione di apparecchiature

Il nostro obiettivo è quello di fornire prodotti e servizi di alta qualità per aiutarvi a raggiungere i vostri obiettivi di deposizione di film sottile.Contattaci oggi per saperne di più sui nostri prodotti e servizi Metale Sputtering Target.